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イオン注入・分析評価サービス
弊社では、1999年より注入サービスを実施しております。
300mmウエハ対応をはじめとする、最先端の半導体デバイス製造に対応した
高電流、中電流、高エネルギーイオン注入装置を取り揃え、幅広い注入サービスが可能です。

また、豊富な測定器を揃え、分析評価サービスも行っております。

皆様の研究・開発業務にお役立ちできれば幸いです。

イオン注入サービス
ウエーハサイズ 5”,6”,8”,12”
イオン種 B,BF2,As,P,Ge,Si,Sb,In等
エネルギー 0.2KeV〜4600KeV (一部多価イオン使用)
使用装置の紹介
分析評価サービス
  • シート抵抗測定
  • ドーズモニター
  • ウエーハ表面の異物分析
  • ウエーハ表面の汚染分析
  • ウエーハ上の膜厚測定
  • その他、異物付着物の分析
使用装置の紹介
詳細につきましては、弊社窓口もしくはこちらまでお問い合わせ下さい。


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