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高エネルギーイオン注入装置
  高エネルギーイオン注入は、エンベディッドタイプのデバイスでのトリプルウェルに不可欠であるとともに、CCD、CISにも必須となっています。
住友重機械イオンテクノロジーでは枚葉装置の欠点である高ダメージ、レジストアウトガスによるドーズシフト、角度コンタミ問題を回避して、安定した注入を提供できるバッチ式を採用しています。バッチ式の角度問題は、パッドアングルを5°→1.5°とすることにより、システマチックに角度誤差を抑制する一方で、バッチ式のメリットであるチェーンインプラントにより、CISの生産性向上に大きく貢献しています。低ダメージによるデバイス特性の良さを実現し、イメージャーに優位な安定注入を可能にしています。 さらには、CCD特性改善に有効な超高エネルギー領域にも対応するため、18段のRF加速レゾネータを持つ「UHE」タイプも提供しています。


NV-GSD-HE
NV-GSD-HE3
UHE


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